在前世。

2006年，A**L首台量产的浸入式光刻机TWINSCANXT:1700i发布，该光刻机比之前最先进的干法光刻机分辨率提高了30%，可以用于45nm量产。

2007年，A**L配合台积电的技术方向，发布首个采用193nm光源的浸没式光刻系统TWINSCANXT:1900i，由此一举垄断市场。

一直到了2010年。

到了2010年后，制程工艺尺寸进化到22nm，已经超越浸没式DUV的蚀刻精度。在EUV技术取得应用突破之前，包括A**L在内的相关企业也在积极改进浸没式光刻系统。

从设备、工艺和器件方面多管齐下，开发出高NA镜头、多光罩、FinFET、两次曝光、Pitch-split、波段灵敏光刻胶等技术。

那个时代一直持续到15年，极紫外光技术取得突破，于是销售的预定额都被排到了几年后，一句话产能有限，一台光刻机被卖到 亿美元，这就是技术的胜利了！

而研发小队刚好研究的也是这个方向，那就是45nm技术，而这个技术也正是当时的苹果4采用的基带芯片的nm尺寸。

而这还是在10年，所以想要取得弯道超车，其实也不是那么容易的，但是有方向总是好的。

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只要45nm技术取得突破，那么就可以说这是世界领先级别的了，而世界上最先进的光刻机技术，那也是阿斯麦在今年也就是2006年取得的进步。

因为光是光刻机的安装和调试等等，就需要最少半年以上的时间，如果是从海外运输过来，那还要加上运输的时间，这样一想，差不多也就是将近1年的时间了。

但是现在有苏澄，肯定不会给别人什么机会的。

“任总，我就直说了，我这边的光刻机项目，很有可能在今年取得关键性突破，那就是45nm技术，也就是??没式45～22nm技术，预定的时间表，不会超过今年的5月！也就是说，最多再有4个月的时间！”

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“所以，我需要海思的帮助！”

任总瞬间激动了起来，“真的？真的吗？”

“当然，这也是我为什么说要把芯片和处理器定在45nm的设计上，不仅仅是因为阿斯麦那边的突破，我们这边也正在抓紧时间研究，相对来说可能比他们那边稍微的慢了一点点，但是我们有时间优势，而且也有成本优势！”

“所以，我已经开始布局中心国际，以求在取得突破以后，能够快速的进入到量产阶段，并且发布属于我们的标准！”

不过激动完了，任总也冷静了下来，“你确定？百分百的确定吗？小苏这可不是开玩笑的，如果真的能够成功，那可是要引起整个半导体行业的震动的！”

苏澄很自信的笑着说道，“确定一定以及肯定，我那边的团队已经给了我具体的时间表，最迟在5月份，如果时间上再稍微快一点的话，那么在4月份左右就能够取得突破，所以，我希望从现在开始我们两家对接，做好迎接45nm技术的准备。”

“另外，您这边也不用和谁说了，等到技术突破以后我们再提其他的吧！这样你看行吗？”

“行，当然行，这是最稳妥的办法了！不过，你准备拿多少股份？”

“我不多拿，百分之30的海思股份怎么样？”

任总笑着点点头，“那我就期待你的技术突破了！”儿.
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